2012年(756)
分类: 服务器与存储
2012-08-11 09:19:56
20世纪90年代以来,自磨(半自磨)仍然呈现出蓬勃发展的局面,磨机最大规格发展到西11. 58 m。我国的新疆阿希金矿、江两家等采用了φ5.5 mxl.8 m湿式。进入21世纪之初,国外生产的自磨机规格达到φ12. 19 m。
我国进入“WTO”之后,国内外市场竞争日趋激烈,新产品开发能力和产品质量方面的问题严重阻碍了行业企业的发展。①研究开发投入不足。企业开发能力薄弱,科研开发费用占销售额的比重太低。一般企业实际不到1%以上;②从事研究开发工作的技术人员力量不足。我们的企业开发人员占职工人数的比例仅为1%左右,而发达国家大都在10%~15%以上;③企业开发机构不健全。虽然筛分设备制造企业中拥有一些技术开发机构,但具备一定水平和实力的开发机构不多,与国外相比差距甚大;④企业对社会科研开发能力利用不够。社会开发与企业生产脱节,科研成果商品化率低;⑤企业技术改造不够。对于结构件的生产条件,从预处理到焊后处理一系列工艺,工装手段必须保证,机械加工应向数控方面发展,保证产品质量;⑥售后服务注意不够。对于售后产品的流向和质量情况,今后要备案并处理。