硫化矿对环境的依赖性比较大

硫化矿对环境的依赖性比较大

      氧化还原环境时矿物表面性质的影响，上面分析是在阴离子捕收剂的基础上进行的，对于阳离子捕收剂，情况恰好相反。当矿浆pH值过高时，由于OH与阴离子捕收剂在矿物表面进行竞争，一些矿物由于吸附了0H一而在其表面生成亲水性薄膜，阻碍矿物表面吸附捕收fiii ~离子，并影响其可浮 (1)多数情况下，对阴离子浦收剂，P型半导体矿物对药荆的吸附性能比N型半导体矿物好。因此，对P型半导体矿劫，浮进时，应选用阴离子捕收和较为合适。
    对N型半导体矿体，应选用阳离子捕收刺。如用阴离子捕收剂，为了改善其对药剂的吸附量，应降低其载流于优。为了降低矿物晶格中的载流子比，使半导体矿物的空穴增加，可以用光照，表面掺杂等方法解决。普拉克辛等人经过试验证明，氯化还原反应能改变许多半导体矿物表面的载流子比，从而改变浮选指标。通常使用的多数浮选药剂均可在矿物表面进行氧化还原反应。对于硫化矿半导体矿物，与浮选药剂的作用，可以分下面两种情况进行讨论。
    浮选过程中，若介质中含有大量硫化钠或介质碱性很高，相当于上述情况。对于P型半导体，当还原剂浓度不大时，还原痢电子往矿物表面迁移，对矿物表面性质影响较小}当还原荆浓度增大时，还原剂往矿物表面迁移的电子，会充满矿物上的空穴，增加nJnp,使矿物表面自由电子过剩，同样生成反型层，影响到捕收剂阴离子在矿物表面的吸附。